一、样品处理：从源头减少干扰

 

　　样品质量是影响精度的首要因素。首先需确保样品均匀性，液体样品应充分混匀（避免沉淀或分层），固体样品需研磨至粒径≤10μm并过筛，减少光散射差异。其次，溶剂选择需匹配测定波长——避免使用在目标波段有强吸收的溶剂（如甲醇在205nm以下有明显吸收），必要时做空白校正。浓度控制同样关键：吸光度建议维持在0.2-0.8AU（线性最佳区间），过高易偏离朗伯-比尔定律，过低则信噪比不足，可通过稀释或浓缩调整。此外，比色皿需清洁无划痕，装液量以2/3容积为宜，避免气泡（可用擦镜纸轻触液面赶泡）。

 

　　二、仪器校准：建立可靠基准

 

　　定期校准是维持精度的核心。每日开机后需执行基线校准：以匹配溶剂为空白，扫描全波长范围（如200-800nm），确认基线平坦无漂移；若使用氘灯/钨灯，需检查光源能量稳定性（氘灯200-350nm、钨灯350-800nm应无明显衰减）。波长校准建议每月一次，采用钬玻璃（含特征吸收峰241.1nm、361.4nm等）或氧化钬溶液验证，偏差需≤±1nm。吸光度校准推荐使用标准滤光片（如NIST可溯源的石英片），确保0.5AU、1.0AU点的示值误差≤±0.005AU。

 

　　三、环境与操作：细节决定稳定性

 

　　环境温湿度需严格控制（推荐20±2℃，湿度45%-65%），避免光学元件因热胀冷缩或结露导致波长偏移。操作时，预热时间需≥30分钟（尤其更换光源后），待电子系统稳定再测样；连续测试时每10个样品插入一次空白校正，抵消光源波动影响。此外，定期清洁单色器光路（用无水乙醇擦拭透镜）、检查检测器灵敏度（通过标准曲线斜率变化判断），可预防隐性性能下降。